Imatge de la portada

Codi QR

Plasma processing and processing science

Veure altres versions (1)

Guardat en:

Dades bibliogràfiques
Autor corporatiu:	National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
Altres autors:	Chen, Francis F., 1929-
Format:	Electrònic eBook
Idioma:	anglès
Publicat:	Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Col·lecció:	NRL strategic series.
Matèries:	Plasma engineering. Semiconductors > Etching. Plasma etching. Electronic books.
Accés en línia:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Etiquetes:	Afegir etiqueta Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!

Imatge de la portada

Plasma processing and processing science

Publicat 1995

An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view

Electrònic eBook