Plasma processing and processing science

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Körperschaften:	National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
Weitere Verfasser:	Chen, Francis F., 1929-
Format:	Elektronisch E-Book
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Schriftenreihe:	NRL strategic series.
Schlagworte:	Plasma engineering. Semiconductors > Etching. Plasma etching. Electronic books.
Online-Zugang:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
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