Plasma processing and processing science

Uloženo v:

Podrobná bibliografie
Korporace:	National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
Další autoři:	Chen, Francis F., 1929-
Médium:	Elektronický zdroj E-kniha
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Edice:	NRL strategic series.
Témata:	Plasma engineering. Semiconductors > Etching. Plasma etching. Electronic books.
On-line přístup:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

Internet