Plasma processing and processing science

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
مؤلفون مشاركون:	National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
مؤلفون آخرون:	Chen, Francis F., 1929-
التنسيق:	الكتروني كتاب الكتروني
اللغة:	الإنجليزية
منشور في:	Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
سلاسل:	NRL strategic series.
الموضوعات:	Plasma engineering. Semiconductors > Etching. Plasma etching. Electronic books.
الوصول للمادة أونلاين:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

الانترنت