Plasma processing and processing science

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Detalles Bibliográficos
Autores Corporativos:	National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
Otros Autores:	Chen, Francis F., 1929-
Formato:	Electrónico eBook
Lenguaje:	inglés
Publicado:	Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Colección:	NRL strategic series.
Materias:	Plasma engineering. Semiconductors > Etching. Plasma etching. Electronic books.
Acceso en línea:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

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