Okładka
kod QR

Plasma processing and processing science

Zapisane w:
organizacja autorów: National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
Kolejni autorzy: Chen, Francis F., 1929-
Format: Elektroniczne E-book
Język:angielski
Wydane: Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Seria:NRL strategic series.
Hasła przedmiotowe:
Plasma engineering.
Semiconductors > Etching.
Plasma etching.
Electronic books.
Dostęp online:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!

Podobne zapisy: Plasma processing and processing science

Podobne zapisy