Plasma processing and processing science

Պահպանված է:

Մատենագիտական մանրամասներ
Համատեղ հեղինակներ:	National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, ebrary, Inc
Այլ հեղինակներ:	Chen, Francis F., 1929-
Ձևաչափ:	Էլեկտրոնային էլ․ գիրք
Լեզու:	անգլերեն
Հրապարակվել է:	Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Շարք:	NRL strategic series.
Խորագրեր:	Plasma engineering. Semiconductors > Etching. Plasma etching. Electronic books.
Առցանց հասանելիություն:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Ցուցիչներ:	Ավելացրեք ցուցիչ Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!

Նկարագրություն
Նյութի նկարագրություն:	Committee chair: Francis F. Chen. This work was performed under Department of Navy Contract N00014-93-C-0089 issued by the Office of Naval Research under contract authority NR 201-124.
Ֆիզիկական նկարագրություն:	x, 35 p.

Նմանատիպ նյութեր