Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Opis bibliograficzny

Korporacja:	ebrary, Inc
Kolejni autorzy:	Baudrant, Annie
Format:	Elektroniczne E-book
Język:	angielski
Wydane:	London : Hoboken, N.J. : ISTE ; Wiley, 2011.
Hasła przedmiotowe:	Semiconductor doping. Ion implantation. Semiconductors > Heat treatment. Electronic books.
Dostęp online:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!