Կազմի պատկեր

Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Պահպանված է:
Համատեղ հեղինակ: ebrary, Inc
Այլ հեղինակներ: Baudrant, Annie
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային էլ․ գիրք
Լեզու:անգլերեն
Հրապարակվել է: London : Hoboken, N.J. : ISTE ; Wiley, 2011.
Խորագրեր:
Semiconductor doping.
Ion implantation.
Semiconductors > Heat treatment.
Electronic books.
Առցանց հասանելիություն:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
Ամփոփում:The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Ֆիզիկական նկարագրություն:xvii, 337 p. : ill.
Մատենագիտություն:Includes bibliographical references and index.

Նմանատիպ նյութեր