Computational lithography

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Ma, Xu, 1983-
Соавтор: ebrary, Inc
Другие авторы: Arce, Gonzalo R.
Формат: Электронный ресурс eКнига
Язык:английский
Опубликовано: Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Серии:Wiley series in pure and applied optics.
Предметы:
Online-ссылка:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!