CVD solutions for new directions in SiC and GaN epitaxy /
Збережено в:
| Автор: | |
|---|---|
| Формат: | Електронний ресурс eКнига |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Linkoping, Sweden :
Semiconductor Materials Division Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University,
2015.
|
| Серія: | Linkoping studies in science and technology. Dissertations ;
Number 1654. |
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | Click to View |
| Теги: |
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Будьте першим, хто залишить коментар!