CVD solutions for new directions in SiC and GaN epitaxy /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Li, Xun (Autor)
Médium: Elektronický zdroj E-kniha
Jazyk:angličtina
Vydáno: Linkoping, Sweden : Semiconductor Materials Division Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, 2015.
Edice:Linkoping studies in science and technology. Dissertations ; Number 1654.
Témata:
On-line přístup:Click to View
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!