Computational lithography

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: Ma, Xu, 1983-
Autor Corporativo: ebrary, Inc
Otros Autores: Arce, Gonzalo R.
Formato: Electrónico eBook
Lenguaje:inglés
Publicado: Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Colección:Wiley series in pure and applied optics.
Materias:
Acceso en línea:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!