Computational lithography

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Автор: Ma, Xu, 1983-
Співавтор: ebrary, Inc
Інші автори: Arce, Gonzalo R.
Формат: Електронний ресурс eКнига
Мова:Англійська
Опубліковано: Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Серія:Wiley series in pure and applied optics.
Предмети:
Онлайн доступ:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!