CVD solutions for new directions in SiC and GaN epitaxy /

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Li, Xun (Author)
פורמט: אלקטרוני ספר אלקטרוני
שפה:אנגלית
יצא לאור: Linkoping, Sweden : Semiconductor Materials Division Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, 2015.
סדרה:Linkoping studies in science and technology. Dissertations ; Number 1654.
נושאים:
גישה מקוונת:Click to View
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!