High-k gate dielectrics for CMOS technology

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả của công ty: ebrary, Inc
Tác giả khác: He, Gang, Sun, Zhaoqi
Định dạng: Điện tử eBook
Ngôn ngữ:Tiếng Anh
Được phát hành: Weinheim : Wiley-VCH, 2012.
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Mục lục:
  • pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
  • pt. 2. High-k deposition and materials characterization
  • pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
  • pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
  • pt. 5. High-k Application in novel devices
  • pt. 6. Challenge and directions.