High-k gate dielectrics for CMOS technology
Đã lưu trong:
Tác giả của công ty: | |
---|---|
Tác giả khác: | , |
Định dạng: | Điện tử eBook |
Ngôn ngữ: | Tiếng Anh |
Được phát hành: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Mục lục:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.