ebrary, Inc, He, G., & Sun, Z. (2012). High-k gate dielectrics for CMOS technology. Wiley-VCH.
Copié avec succès vers le presse-papier
Échec de la copie vers le presse-papier
Style de citation Chicago (17e éd.)
ebrary, Inc, Gang He, et Zhaoqi Sun. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Weinheim: Wiley-VCH, 2012.
Copié avec succès vers le presse-papier
Échec de la copie vers le presse-papier
Style de citation MLA (9e éd.)
ebrary, Inc, et al. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Wiley-VCH, 2012.
Copié avec succès vers le presse-papier
Échec de la copie vers le presse-papier
Attention : ces citations peuvent ne pas être correctes à 100%.