ebrary, Inc, He, G., & Sun, Z. (2012). High-k gate dielectrics for CMOS technology. Wiley-VCH.
Uspješno je kopirano u međuspremnik
Kopiranje u međuspremnik neuspjelo
Čikaški stil citiranja (17. izdanje)
ebrary, Inc, Gang He, i Zhaoqi Sun. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Weinheim: Wiley-VCH, 2012.
Uspješno je kopirano u međuspremnik
Kopiranje u međuspremnik neuspjelo
MLA način citiranja (9. izdanje)
ebrary, Inc, et al. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Wiley-VCH, 2012.
Uspješno je kopirano u međuspremnik
Kopiranje u međuspremnik neuspjelo
Upozorenje: Ovi citati možda nisu uvijek 100% točni.