ebrary, Inc, He, G., & Sun, Z. (2012). High-k gate dielectrics for CMOS technology. Wiley-VCH.
Η αντιγραφή στο πρόχειρο ολοκληρώθηκε επιτυχώς
Η αντιγραφή στο πρόχειρο απέτυχε
Παραπομπή σε μορφή Chicago (17η εκδ.)
ebrary, Inc, Gang He, και Zhaoqi Sun. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Weinheim: Wiley-VCH, 2012.
Η αντιγραφή στο πρόχειρο ολοκληρώθηκε επιτυχώς
Η αντιγραφή στο πρόχειρο απέτυχε
Παραπομπή σε μορφή MLA (9th εκδ.)
ebrary, Inc, et al. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Wiley-VCH, 2012.
Η αντιγραφή στο πρόχειρο ολοκληρώθηκε επιτυχώς
Η αντιγραφή στο πρόχειρο απέτυχε
Πρόσοχή: Οι παραπομπές μπορεί να μην είναι 100% ακριβείς.