High-k gate dielectrics for CMOS technology
Сохранить в:
| Соавтор: | |
|---|---|
| Другие авторы: | , |
| Формат: | Электронный ресурс eКнига |
| Язык: | английский |
| Опубликовано: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
Оглавление:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.