High-k gate dielectrics for CMOS technology

-д хадгалсан:
Номзүйн дэлгэрэнгүй
Байгууллагын зохиогч: ebrary, Inc
Бусад зохиолчид: He, Gang, Sun, Zhaoqi
Формат: Цахим Цахим ном
Хэл сонгох:англи
Хэвлэсэн: Weinheim : Wiley-VCH, 2012.
Нөхцлүүд:
Онлайн хандалт:An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
Шошгууд: Шошго нэмэх
Шошго байхгүй, Энэхүү баримтыг шошголох эхний хүн болох!
Агуулга:
  • pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
  • pt. 2. High-k deposition and materials characterization
  • pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
  • pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
  • pt. 5. High-k Application in novel devices
  • pt. 6. Challenge and directions.