High-k gate dielectrics for CMOS technology
שמור ב:
| מחבר תאגידי: | |
|---|---|
| מחברים אחרים: | , |
| פורמט: | אלקטרוני ספר אלקטרוני |
| שפה: | אנגלית |
| יצא לאור: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
תוכן הענינים:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.