High-k gate dielectrics for CMOS technology
Tallennettuna:
| Yhteisötekijä: | |
|---|---|
| Muut tekijät: | , |
| Aineistotyyppi: | Elektroninen E-kirja |
| Kieli: | englanti |
| Julkaistu: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
| Aiheet: | |
| Linkit: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
Sisällysluettelo:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.