High-k gate dielectrics for CMOS technology
Uloženo v:
| Korporativní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | , |
| Médium: | Elektronický zdroj E-kniha |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
Obsah:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.