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Computational lithography

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Dettagli Bibliografici
Autore principale:	Ma, Xu, 1983-
Ente Autore:	ebrary, Inc
Altri autori:	Arce, Gonzalo R.
Natura:	Elettronico eBook
Lingua:	inglese
Pubblicazione:	Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Serie:	Wiley series in pure and applied optics.
Soggetti:	Microlithography > Mathematics. Integrated circuits > Design and construction > Mathematics. Photolithography > Mathematics. Semiconductors > Etching > Mathematics. Resolution (Optics) Electronic books.
Accesso online:	An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view
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