Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Збережено в:
| Співавтор: | |
|---|---|
| Інші автори: | |
| Формат: | Електронний ресурс eКнига |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|