Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Сохранить в:
| Соавтор: | |
|---|---|
| Другие авторы: | |
| Формат: | Электронный ресурс eКнига |
| Язык: | английский |
| Опубликовано: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|