Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Zapisane w:
| Korporacja: | |
|---|---|
| Kolejni autorzy: | |
| Format: | Elektroniczne E-book |
| Język: | angielski |
| Wydane: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|