Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
-д хадгалсан:
| Байгууллагын зохиогч: | |
|---|---|
| Бусад зохиолчид: | |
| Формат: | Цахим Цахим ном |
| Хэл сонгох: | англи |
| Хэвлэсэн: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| Нөхцлүүд: | |
| Онлайн хандалт: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Шошгууд: |
Шошго нэмэх
Шошго байхгүй, Энэхүү баримтыг шошголох эхний хүн болох!
|