Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Պահպանված է:
| Համատեղ հեղինակ: | |
|---|---|
| Այլ հեղինակներ: | |
| Ձևաչափ: | Էլեկտրոնային էլ․ գիրք |
| Լեզու: | անգլերեն |
| Հրապարակվել է: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Ցուցիչներ: |
Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|