Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
שמור ב:
| מחבר תאגידי: | |
|---|---|
| מחברים אחרים: | |
| פורמט: | אלקטרוני ספר אלקטרוני |
| שפה: | אנגלית |
| יצא לאור: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|