Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Gespeichert in:
| Körperschaft: | |
|---|---|
| Weitere Verfasser: | |
| Format: | Elektronisch E-Book |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|