Silicon technologies ion implantation and thermal treatment /
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
সংরক্ষণ করুন:
| সংস্থা লেখক: | |
|---|---|
| অন্যান্য লেখক: | |
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক বৈদ্যুতিন গ্রন্থ |
| ভাষা: | ইংরেজি |
| প্রকাশিত: |
London : Hoboken, N.J. :
ISTE ; Wiley,
2011.
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|