High-k gate dielectrics for CMOS technology
Zapisane w:
| Korporacja: | |
|---|---|
| Kolejni autorzy: | , |
| Format: | Elektroniczne E-book |
| Język: | angielski |
| Wydane: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|
Spis treści:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.