High-k gate dielectrics for CMOS technology
محفوظ في:
| مؤلف مشترك: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , |
| التنسيق: | الكتروني كتاب الكتروني |
| اللغة: | الإنجليزية |
| منشور في: |
Weinheim :
Wiley-VCH,
2012.
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | An electronic book accessible through the World Wide Web; click to view |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
جدول المحتويات:
- pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS
- pt. 2. High-k deposition and materials characterization
- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode
- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology
- pt. 5. High-k Application in novel devices
- pt. 6. Challenge and directions.