ebrary, Inc, He, G., & Sun, Z. (2012). High-k gate dielectrics for CMOS technology. Wiley-VCH.
Citace podle Chicago (17th ed.)ebrary, Inc, Gang He, a Zhaoqi Sun. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Weinheim: Wiley-VCH, 2012.
Citace podle MLA (9th ed.)ebrary, Inc, et al. High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology. Wiley-VCH, 2012.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..