ebrary, Inc, Park, J., & Sudarshan, T. S. (2001). Chemical vapor deposition. ASM International.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)ebrary, Inc, Jong-Hee Park, و T. S. Sudarshan. Chemical Vapor Deposition. Materials Park, Ohio: ASM International, 2001.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)ebrary, Inc, et al. Chemical Vapor Deposition. ASM International, 2001.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.